電子廠工業(yè)廢氣處理中通常會(huì)采用絕緣層材料、有機(jī)溶劑、清潔劑、顯像劑、光刻、蝕刻液等中帶有大量有機(jī)物的成分。在下加工工藝中，這一些有機(jī)溶劑根據(jù)揮發(fā)變?yōu)閺U氣排放。目前，對(duì)于這樣的廢氣排放，關(guān)于電子廠工業(yè)廢氣我們可以采取焚燒處理、活性炭吸附、冷凝法、光催化氧化法、高溫等離子體凈化處理等六種方法。

電子工業(yè)廢氣VOCS普遍的種類有：異丙醇、丁酮、甲苯、醋酸丁酯、甲醇、乙醇、丙酮、二甲苯、丙二醇單甲醚、苯乙烯、乙酸乙酯、正丁醇、甲基異丁基甲酮、二氯甲烷、環(huán)已酮、乙苯、正庚烷、甲氫呋喃、三氯乙烯和氯方等。

1、焚燒處理（RTO）：耗能大、運(yùn)作費(fèi)用高，適宜解決濃度較高的、小風(fēng)速有機(jī)氣體；

2、活性炭吸附法（活性碳）：小投資、加工工藝簡易，易飽和，必須與解吸、冷凝、焚燒處理等方法合用方能達(dá)到排放量標(biāo)準(zhǔn)；

3、冷凝法：與吸收、活性炭吸附等辦法合用，將有機(jī)氣體活性炭吸附萃取后冷凝、提取，回收當(dāng)中有使用價(jià)值的有機(jī)化合物。這種方法常用濃度值高、風(fēng)速小的有機(jī)廢氣治理場合。

弊端是：投資、耗能、運(yùn)作成本高，冷凝回收物提純解決后，仍有很大部分液體廢料必須進(jìn)一步處理。

4、沸石轉(zhuǎn)輪萃取+焚燒處理：沸石轉(zhuǎn)輪濃縮設(shè)備主要依賴進(jìn)口的，自主機(jī)器設(shè)備暫不成熟。該加工工藝同樣與生產(chǎn)設(shè)備、制作工藝存有匹配關(guān)系；

5、光催化氧化法：使用C波段（僅低于切割不銹鋼板的激光，強(qiáng)過氬弧焊光源的數(shù)十倍強(qiáng)度）在機(jī)器設(shè)備內(nèi)，強(qiáng)裂解惡臭味成分分子鏈，轉(zhuǎn)變成分結(jié)構(gòu)，將高分子材料污染源成分，裂解、氧化變成低分子無害成分，如水和二氧化碳等；

6、高溫等離子技術(shù)凈化處理法：通過壓縮、高壓聚能充放電變成高溫等離子技術(shù)。反應(yīng)器壓力增大，廢氣容積大幅度膨脹，在高溫、高電勢的雙向作用下，有機(jī)氣體瞬間(萬分之5秒)變成高溫等離子技術(shù)，當(dāng)中長分子鏈裂解成單質(zhì)原子，有機(jī)化合物凈化率在90%上下。